Se inaugura el primer equipo de desinfección de mascarillas con luz UV

Participarán el rector de la Universidad de la República, Rodrigo Arim; la decana de la Facultad de Ingeniería, María Simon, la decana de la Facultad de Ciencias, Mónica Marín, la directora de la Escuela Universitaria Centro de Diseño, Carolina Poradosu y la directora general del Hospital de Clínicas, Graciela Ubach.

Detalles del evento
La actividad se realizará el jueves 5 de noviembre a las 14h en el Anfiteatro del piso 2 del Hospital de Clínicas. Todas las personas deben registrarse al ingresar y deben hacerlo con tapabocas.
Proyecto LUCIA
Una de las actuales dificultades de los sistemas sanitarios a nivel mundial es a disponibilidad de mascarillas N95 para el personal de salud. Estas mascarillas, que son un medio de protección efectivo contra el coronavirus, son descartables pero la situación de la pandemia hace que la demanda sea excesiva y sobrepase todas las capacidades de producción. Además, en nuestro país, a esto se suma que la posibilidad de importación se ve muy reducida y que no existe producción nacional.
Con este problema en mente, docentes de Ingeniería, Ciencias y la Escuela de Diseño de la Universidad de la República comenzaron a trabajar en un equipo que utiliza irradiación de luz Ultravioleta-C germicida de muy alta intensidad para la desinfección de las mascarillas usadas y que permita su reutilización de manera segura.

El Equipo
El diseño incorpora un sistema óptico capaz de realizar una irradiación homogénea de luz ultravioleta germicida a una dosis muy alta. Este equipo permite desinfectar 5 mascarillas por vez sin que exista ninguna zona sub-irradiada. Un solo equipo puede cubrir las necesidades de un CTI como el del Hospital Maciel o del Hospital de Clínicas. Este diseño tiene la particularidad de utilizar partes estándar o de fácil fabricación, lo que permitirá realizar una producción local. Para asegurar la efectividad y seguridad del método, el desarrollo del equipo será acompañado por la generación de un protocolo de manipulación y procesamiento de las máscaras.
Liberado para el mundo
La Facultad de Ingeniería y el equipo de trabajo decidieron dejar disponibles bajo Licencia Creative Commons tipo 4 -que permite su reproducción por terceros- toda la documentación del proyecto, lo que habilita a que este equipo sea utilizado libremente.

● Ver video de divulgación del proyecto aquí
● Acceder a la documentación abierta aquí

 

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